luda 地位堪比芯片，国产光刻机技术再次突破，光刻机也将很快打破外国企业的垄断。
最近在半导体领域，真可谓是好事不断。大家都知道芯片对电子产业发展的重要性，而如今国内又一项重要性堪比芯片的技术取得了进展，并且最新一代的光刻机也即将下线。
国产光刻技术马上会迎来发展的新契机，究竟是什么技术能够跟芯片相比较呢？
光刻机光源实现国产化
近日国内一家光学研究所取得了一种新技术的突破，名为光学修正技术，该技术对芯片的修正效率极高。
众所周知光刻技术对芯片的生产研发具有决定意义，眼下芯片的工艺越来越顶尖，光刻技术受到物理极限的影响无法准确进行线路的雕刻，因此光学修正技术应运而生。
它能够在光刻机工作流程不变的情况下，提高芯片线路的分辨率，从而能够让光刻机准确雕刻。
这种技术不仅能够大大降低光刻生产中的失误率，还节约了成本，对于国产芯片工艺水平的提高有至关重要的作用。
据悉这一技术能够在90nm及以下的工艺中广泛应用。
新一代光刻机将问世
不光这一修正技术得到了突破，还有一个好消息从光刻行业内传出，那就是新一代光刻机即将面世了。
由于国内的中芯国际目前正在抓紧扩大成熟工艺的产能，未来在手机和电脑领域将会抢占一波市场份额，为了响应国产芯片企业的发展步伐，自主研发光刻机的企业也开始了新一轮技术的突破，上海微电子就是其中的佼佼者。
前不久，上海微电子宣布实现了光刻机从90nm到新一代制程的飞跃，自2021年起，两年内实现交付。
这一新款的光刻机最大的亮点是核心技术全部自主研发，彻底摆脱了国外光刻机企业的技术垄断。
日企从中作梗
令人没想到的是，正当新款光刻机官宣落地之际，多家日企宣布切断了中国市场的光刻胶供应。所谓光刻胶就是生产芯片的核心材料，而日本正是国际上的半导体材料巨头，其把控着国际光刻胶市场中85%的份额。
今年日本地震频发，导致光刻胶产能出现下滑趋势，不少国际芯片巨头都受到了严重影响，可见日本企业在国际市场中的地位有多高。
其中以东京应化和信越等企业发展规模最大，可以说这些企业一旦宣布停产或减产，世界半导体的产能都会随即下降。
因此国内大多数企业都开始选择国产光刻胶，并不断验证可行性。
国产光刻胶实现自研
可是其自主生产率只有不到5%，面对国内庞大的产能根本就无能为力，例如12英寸晶圆所需的光刻胶至今都难以实现规模量产。
尽管国产化率不高，但是眼下已经逐渐将日本企业垄断的局面打破，在2020年年底，南大光电加大科研投入，研发出了ArF光刻胶，并且得到了合作客户的一致认可，是国内市场第一款性能验证合格的光刻胶。
而且经过权威机构的检测表明，南大光电的光刻胶已经足以跟日企的光刻胶相提并论。
该企业已经建成了能够生产25吨光刻胶的生产线，其中的大部分生产设备都是国内企业提供的，不存在被垄断打压的风险。
希望国产半导体企业能够在日企切断半导体材料供应链的情况下，大力扩充产能，提升光刻胶的质量，为国产芯片行业贡献自己的力量。